Micron начала строительство завода по производству микросхем в штате Нью-Йорк
16 января 2026 года американская компания Micron Technology провела торжественную церемонию закладки первого камня на площадке будущего мега-завода по производству памяти DRAM в городе Клей, округ Онондейга, штат Нью-Йорк. Это событие ознаменовало официальный старт строительства, что произошло после многолетней подготовки, экологических проверок и получения всех необходимых разрешений.
Проект, объявленный ещё в 2022 году, оценивается в 100 миллиардов долларов США и станет крупнейшей частной инвестицией в истории штата Нью-Йорк. На территории White Pine Commerce Park площадью около 1377 акров (примерно 557 гектаров) планируется возвести до четырёх фабрик, каждая из которых займёт около 1,2 миллиона квадратных футов. Полное завершение строительства растянется на 20 лет — первые две фабрики начнут производство к 2030 году, а остальные ожидаются к 2041 году.
По оценкам компании, после запуска всех мощностей работа будет проводиться в три смены, а численность работников может достичь 9 тысяч человек. В целом проект обеспечит до 50 тысяч рабочих мест в регионе, включая поставщиков, подрядчиков и вспомогательные службы. Это значительный импульс для экономики Центрального Нью-Йорка, где давно ощущается потребность в новых высокотехнологичных рабочих местах.
Завод будет специализироваться на производстве передовой памяти DRAM, спрос на которую резко возрос из-за бума искусственного интеллекта. Аналитики отмечают глобальный дефицит чипов памяти, который может сохраниться до 2027 года: производство смещается в сторону высокопроизводительных решений для ИИ, что приводит к росту цен на компоненты. Запуск новых мощностей Micron позволит увеличить производство DRAM в США в 12 раз за ближайшие два десятилетия, укрепляя национальную цепочку поставок и снижая зависимость от зарубежных производителей.
Проект получил поддержку на федеральном уровне: в апреле 2024 года Micron выделили 6,1 миллиарда долларов по Закону о чипах и науке (CHIPS and Science Act). Это финансирование покрывает расширение как в Нью-Йорке, так и исследовательский центр в Бойсе, штат Айдахо.
Подготовка к строительству сопровождалась длительными экологическими процедурами. Так как проект затрагивает значительные природные территории: планируется занять около 193 акров регулируемых федеральных водно-болотных угодий и более 6 тысяч линейных футов водотоков. Для компенсации компания создаст 1216 акров новых мест обитания для двух видов летучих мышей, которые находятся под угрозой исчезновения (индийская и северная длинноухая), включая родильные колонии. Также 628 акров для защиты таких птиц, как сова-крошка, короткоухая сова, северный лунь. К 2030 году Micron восстановит 504 акра водно-болотных угодий, что превысит утраченные площади на первой фазе. По расчётам компании, к завершению проекта поглощение парниковых газов сохранёнными и созданными экосистемами втрое превысит потери от всего строительства.
Церемония закладки камня прошла при участии высших должностных лиц: губернатора штата Нью-Йорк Кэти Хокул, сенаторов Чарльза Шумера и Кирстен Джиллибранд, министра торговли США Говарда Латника и руководства Micron во главе с CEO Санджаем Мехротрой. Все стороны подчеркнули, что проект — это не только технологический прорыв, но и вклад в национальную безопасность, возрождение промышленности и создание рабочих мест для будущих поколений.
Для Казахстана, активно развивающего собственный технологический сектор и участвующего в глобальных цепочках поставок, такие крупные инвестиции в США служат примером того, как государства стимулируют релокацию критически важных производств. Это также напоминает о растущем значении микроэлектроники в мировой экономике и необходимости баланса между развитием и охраной окружающей среды.
Комментарии